作业帮化学试剂纯度分级UP级与MOS级的区别?
来源：学生作业帮助网 编辑：作业帮 时间：2024/05/04 13:31:40
化学试剂纯度分级UP级与MOS级的区别?
化学试剂纯度分级UP级与MOS级的区别?
化学试剂纯度分级UP级与MOS级的区别?
电子化学试剂按照纯度：
UP级:适用1微米集成电路及TFT-LCD制造工艺,金属杂质含量小于10ppb,经过0.2微米孔径过滤器过滤,控制0.5微米粒子,在100级净化环境中灌装,达到SEMI C7标准
MOS级化学试剂是“金属-氧化物-半导体”(Metal-oxide-semiconductor)电路专用的特纯试剂的简称,是为适应大规模集成电路(LSI)的生产而出现的一个新的试剂门类.它属于生产金属氧化物半导体电路专用的化学品,是一种高纯试剂.其纯度要求单项金属离子杂质含 量均在10-7%~10-9%范围内.而更重要的是控制产品内微粒杂质（即尘埃和不溶颗粒）的个数,应当符合美国材料试验学会（ASTM）“0”级标准,即对5~10微米大小的颗粒,每100毫升中最大允许在2700个以下,而对5微米大小的颗粒,要求在304个以下.
UP(Ultra Pure)：超纯，99.8%，这种试剂纯度最高，杂质含量最低，适合于重要精密的分析工作和科学研究工作
电子纯(MOS)：金属-氧化物-半导体(Metal-Oxide-Semiconductor)电子工业专用高纯化学品.一般用于半导体，电子管等方面，其杂质最高含量为0.01-10ppm，有的可降低到ppb数量级，金属杂质含量小于1ppb，尘埃等级达到0-2ppb，适合0.3...
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UP(Ultra Pure)：超纯，99.8%，这种试剂纯度最高，杂质含量最低，适合于重要精密的分析工作和科学研究工作
电子纯(MOS)：金属-氧化物-半导体(Metal-Oxide-Semiconductor)电子工业专用高纯化学品.一般用于半导体，电子管等方面，其杂质最高含量为0.01-10ppm，有的可降低到ppb数量级，金属杂质含量小于1ppb，尘埃等级达到0-2ppb，适合0.35—0.8微米集成电路加工工艺。
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